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EBARA荏原 廢氣處理設(shè)備 TND-Single-A1
2025/04/25 10:37:05
TND型
具備低氮氧化物且豐富的反應(yīng)副產(chǎn)物處理措施，能夠降低維護(hù)成本的燃燒式廢氣處理裝置
產(chǎn)品介紹
TND型采用**燃燒方式，屬于低氮氧化物、低一氧化碳排放的燃燒式廢氣處理裝置。憑借各種耐腐蝕措施與副產(chǎn)物處理措施，維護(hù)間隔達(dá)到傳統(tǒng)產(chǎn)品的3倍以上，加上公用工程消耗低的低運(yùn)行成本方式，能夠有效降低使用成本。產(chǎn)品陣容包括：TND-Single型（燃燒式+濕式洗滌器）、TND-Single Plus（前置清洗+燃燒式+濕式洗滌器）。在副產(chǎn)物較多的工藝中，也能實(shí)現(xiàn)低運(yùn)行成本和高效處理。
規(guī)格
| 設(shè)備名稱 | 單位 | TND-Single A1-A4/ TND-Single P1~P4 | TND-Single Plus-A1~A4/P1~P4 |
| 處理方式 | 燃燒式 + 濕式 | 濕式 + 燃燒式 + 濕式 | |
| *大允許流入氣體量 | L/min | 200(每個(gè)端口） | 200(每個(gè)端口） |
| 400(每臺(tái)裝置） | 400(每臺(tái)裝置） | ||
| 燃料 | 選擇城市燃?xì)?丙烷氣體 | 選擇城市燃?xì)?丙烷氣體 | |
| 尺寸 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,980 | 1,200 x 650 x 1,980 |
| 可處**體例 | 工藝（沉積）氣體 SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2、PH3、Si3H8等 所有潔凈氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 | 工藝（沉積）氣體 WF6、TiCl4、SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など 所有潔凈氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | |
| 標(biāo)準(zhǔn)裝備品 | 粉體去除用水清洗結(jié)構(gòu) | 前道粉體捕集結(jié)構(gòu) | |
| 粉體去除用燃燒器刮板 | 粉體去除用燃燒器刮板 | ||
| 選項(xiàng) | 自來(lái)水、污水使用量削減單元 | 自來(lái)水、污水使用量削減單元 | |
| 粉體排放削減用風(fēng)機(jī)洗滌器 | 粉體排放削減用風(fēng)機(jī)洗滌器 | ||
